Быковский Н.Е., Сенатский Ю.В. «Cпектры, временная структура и угловая направленность генерации в кристалле Yb:YAG и в иттербиевом стекле при накачке низкокогерентным излучением лазера на центрах окраски LiF:F₂⁺» Квантовая электроника, 38, № 9, с. 813-822 (2008)

При фокусировке излучения лазера на центрах окраски LiF:F₂⁺(спектральный диапазон 0.89–0.95 мкм) на пластины из кристалла Yb:YAG с 20% концентрацией активатора и иттербиевого стекла с 10% концентрацией активатора наблюдались наносекундные импульсы излучения ионов Yb³⁺ в спектральной области 1.0–1.06 мкм с шириной спектра до 20 нм в Yb:YAG и до 50 нм в иттербиевом стекле. Генерация возникала в активной среде в области возбуждения ВРМБ излучения накачки диаметром менее 200 мкм. Угловая расходимость широкополосного лазерного излучения (10^–3–10^–4 рад) была на 1–2 порядка меньше дифракционного предела. Обсуждается механизм возникновения коротких импульсов остронаправленной широкополосной генерации в пространственной структуре тонких слоев с инверсией, возникающей в области распространения интенсивных акустических волн в среде. Интерпретация экспериментальных данных по угловой расходимости излучения основывается на новом представлении распределения электромагнитного поля фотона в пространстве не в форме бегущей волны, а с фиксированным по направлению распространения расположением структур поля. Рассматриваются особенности временной картины и спектров узкополосной линейчатой генерации в кристалле Yb:YAG и в иттербиевом стекле в резонаторе при релаксации области возбуждения ВРМБ в активной среде. Обсуждается возможность диагностики параметров среды по сдвигу спектров генерации на модах резонатора в различных участках области возбуждения ВРМБ.